하프늄 플레이트 공장 직접 판매

기본정보

제품 설명

[ 하프늄판 ] 소개
우리는 생산을 전문으로압연 시트로서의 하프늄 다양한 두께와 크기로. 대부분의 시트는 열 및 전자빔(E-Beam) 증발, 저온 유기 증발, 원자층 증착(ALD)을 포함한 코팅 및 박막 화학 기상 증착(CVD) 및 물리 기상 증착(PVD) 공정에 사용하기 위해 주조 잉곳으로 생산됩니다. ), 연료 전지 및 태양 에너지와 같은 특정 응용 분야를 위한 유기 금속 및 화학 기상 증착(MOCVD). 모든 금속의 두께 범위는 0.04" ~ 0.25"입니다. 재료는 결정화, 고체 상태 및 승화와 같은 기타 초고정제 공정을 사용하여 생산됩니다. American Elements는 상업 및 연구 응용 분야와 새로운 독점 기술을 위한 맞춤형 작곡을 전문적으로 제작합니다. American Elements는 또한 희토류 금속 및 대부분의 기타 고급 재료를 막대, 막대 또는 판 형태뿐만 아니라 기타 기계 가공 형태로 주조하고 나노 입자와 같은 기타 공정을 통해 용액 및 유기 금속의 형태로 주조합니다. 우리는 또한 막대, 분말 및 판 형태의 하프늄도 생산합니다. 요청 시 다른 모양도 제공됩니다.
[하프늄 플레이트] 화학:

[ 하프늄 플레이트 ] 용도 :

코팅 가공 산업에서 널리 사용됩니다.

a: 건축용 유리, 유리를 이용한 자동차, 그래픽 디스플레이 분야.

b:전자 및 반도체 분야.

c: 장식 및 금형 분야.

d:광학코팅재료

1, 전자를 방출하기 쉽기 때문에 유용합니다(백열등으로 사용되는 필라멘트 등). X선관의 음극으로 사용되는 탄탈륨과 텅스텐 또는 몰리브덴의 합금은 고전압 방전관의 전극으로 사용됩니다. X선용 음극 및 텅스텐 와이어 제조 산업으로 자주 사용됩니다.

2, 순수 탄탈륨은 가소성, 가공 용이성, 고온 및 내식성을 가지며 원자력 산업에서 중요한 재료입니다. 도가니의 열중성자 포획 단면은 원자로의 제어봉 및 보호 장치로 사용할 수 있는 이상적인 중성자 흡수체입니다.

3, 하프늄 요소는 최신 intel45 나노 프로세서에도 사용됩니다. 이산화규소(SiO2)의 제조 가능성과 트랜지스터 성능을 지속적으로 향상시키기 위한 두께 감소로 인해 프로세서 제조업체에서는 게이트 유전체 재료로 이산화규소를 사용해 왔습니다.

높은 단단한 질감

낮은 불순물 함량

더 나은 열 방출

높은 인장 강도

[ 하프늄판 ]